CVD，MOCVD專用氫氣發(fā)生器主要由電解系統(tǒng)、壓力控制系統(tǒng)、凈化系統(tǒng)和顯示系統(tǒng)組成，它可以連續(xù)可靠的產生純度很高的氫氣，純度>99.9999%，從而使昂貴且危險的高壓氫氣鋼瓶*告別實驗室，整個過程只需去離子水和供電，即可產生氫氣，一次加水即可持續(xù)工作15天，成本低。
氫氣發(fā)生器的安全、簡便性能使其替代了危險的高壓氫氣鋼瓶。氫氣根據(jù)需要適時適量產生，保持氫氣儲存體積和安全性。 通過電解水產生氫氣，產生的氧氣則放空進入大氣。具有電解面積大、池溫低、性能好、產氣量大、純度高的優(yōu)點。
CVD，MOCVD專用氫氣發(fā)生器的使用方法：
1、開機時，先用原料氫置換系統(tǒng)，從閥3放空，待系統(tǒng)內的高純氮置換干凈后，根據(jù)用戶的原料氫內的含氫量和所需高純氫量，參照表一數(shù)據(jù)，來選定操作溫度、操作壓力和馳放氣量，然后再通電加熱鈀管，從閥2流出高純氫。
2、調溫方法，可根據(jù)隨機所帶的說明書進行溫度設定。從鈀擴散制得的高純氫到實際獲得的高純氫，尚需要置換閥2前管線的一段時間，通常約需2~3小時。由于本裝置在出廠前，都要經過產品質量檢驗，因此閥1和閥3管線內，充有高純氮，閥2到管線前那段管線充有高純氮。當設備停止使用時，應先停電，待裝置冷卻后各閥門都關閉再停氣，以便在下次使用時減少置換系統(tǒng)的時間。
3、一般認為在鈀管厚度一定的情況下，進出口壓力差越大，溫度越高，則氫的滲透量越大，但平均壓力以8~3公斤/平方厘米，操作溫度為300~400℃為宜。電壓是否在2.3V左右。
更新時間：2024-08-15
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